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平板狀氧化鋁WCA50 片狀氧化鋁50um

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平板狀氧化鋁WCA50 片狀氧化鋁50um
平板狀氧化鋁拋光粉是以工業(yè)氧化鋁粉為原料,采用特殊生產(chǎn)工藝處理,生產(chǎn)出來(lái)的氧化鋁拋光粉晶體形狀呈六角平板狀,因而稱之為平板狀氧化鋁或片狀氧化鋁。

平板狀氧化鋁的氧化鋁純度99%以上,具有耐熱,耐腐蝕,硬度高的特點(diǎn)。與傳統(tǒng)磨料球形顆粒不同,平板狀氧化鋁的底面平整,研磨時(shí)顆粒貼合工件表面,產(chǎn)生滑動(dòng)的研磨效果,避免了顆粒尖角對(duì)工件表面的劃傷,另一方面,平板狀氧化鋁進(jìn)行研磨時(shí),研磨壓力是均勻分布在顆粒表面,顆粒不易破碎,性能提高,從而提高了研磨效率和表面光潔度。

 

對(duì)于半導(dǎo)體材料如半導(dǎo)體硅片,平板狀氧化鋁的應(yīng)用,可以減少磨削時(shí)間,大幅提高研磨效率,減少磨片機(jī)的損耗,節(jié)省人工和磨削,提高磨削合格率。品質(zhì)接近國(guó)外。

顯像管玻殼磨削工效提高3-5倍;

合格品率提高10-15%,半導(dǎo)體硅片合格品率達(dá)到99%以上;

研磨消耗量比普通氧化鋁拋光粉減少40-40%;

 

 

平板狀氧化鋁微粉是以工業(yè)氧化鋁粉為主要原料,采用特殊礦化劑、高溫控制晶粒形狀及大小,經(jīng)特殊處理和嚴(yán)顆粒的平板狀結(jié)構(gòu),硬度高達(dá)莫氏九級(jí),磨削力強(qiáng),不易產(chǎn)生劃痕,有特殊設(shè)計(jì)的粒度分布,質(zhì)量和日本FUJIMI公司相當(dāng)。

 

平板氧化鋁研磨拋光微粉的特點(diǎn)

1)平板型氧化鋁研磨拋光微粉與其它氧化鋁研磨拋光微粉的區(qū)別是:片狀,硬度高,粒度均勻。

2)特點(diǎn)為:

A、形狀為平板狀,即片狀,使磨擦力增大,提高了磨削速度,提高了工效,因此可減少磨片機(jī)的數(shù)量、人工和磨削時(shí)間,如顯像管玻殼磨削工效能提高3-5倍;

B、由于形狀為平板狀,故對(duì)于被磨對(duì)象(如半導(dǎo)體硅片等)來(lái)說(shuō)不易劃傷,合格品率可提高10%至15%,如半導(dǎo)體硅片,其合格品率一般能達(dá)到99%以上;

C、由于硬度比普通氧化鋁研磨拋光微粉高,故用量比普通氧化鋁研磨拋光微粉要少,如果磨同樣數(shù)量的產(chǎn)品,其用量比普通氧化鋁研磨拋光微粉要節(jié)約40%至50%;

D、與國(guó)外同類產(chǎn)品相比,質(zhì)量達(dá)到或超過(guò)國(guó)外同類產(chǎn)品,品質(zhì)已達(dá)到,但產(chǎn)品價(jià)格只有國(guó)外同類產(chǎn)品的50%;

E、由于平板型氧化鋁研磨拋光微粉的優(yōu)良性能,故加工的產(chǎn)品合格品***,質(zhì)量穩(wěn)定,生產(chǎn)成本只有原來(lái)的50%-60%。

3、片狀氧化鋁是以工業(yè)氧化鋁為原料,添加復(fù)合礦化劑,經(jīng)過(guò)高溫煅燒而成。晶體形貌為具有一定厚度的片狀備用于以下方面的研磨拋光磨料,平板型氧化鋁研磨拋光微粉的用途:

1)電子行業(yè): 單晶硅片、壓電石英晶體、化合物半導(dǎo)體的研拋。

2)玻璃行業(yè): 硬質(zhì)玻璃和顯象管玻殼的加工。

3)涂附行業(yè): 特種涂料和等離子噴涂的填充劑。

4)金屬和陶瓷加工業(yè)。

片狀氧化鋁的生產(chǎn)規(guī)格

 

型號(hào)

D3(um)

D50(um)

D94(um)

CA40

39-44.6

27.7-31.7

18-20

CA35

35.4-39.8

23.8-27.2

15-17

CA30

28.1-32.3

19.2-22.3

13.4-15.6

CA25

24.4-28.2

16.1-18.7

9.6-11.2

CA20

20.9-24.1

13.1-15.3

8.2-9.8

CA15

14.8-17.2

9.4-11

5.8-6.8

CA12

11.8-13.8

7.6-8.8

4.5-5.3

CA09

8.9-10.5

5.9-6.9

3.3-3.9

CA05

6.6-7.8

4.3-5.1

2.55-3.05

CA03

4.8-5.6

2.8-3.4

1.5-2.1