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平板狀氧化鋁的氧化鋁純度99%以上,具有耐熱,耐腐蝕,硬度高的特點(diǎn)。與傳統(tǒng)磨料球形顆粒不同,平板狀氧化鋁的底面平整,研磨時(shí)顆粒貼合工件表面,產(chǎn)生滑動(dòng)的研磨效果,避免了顆粒尖角對(duì)工件表面的劃傷,另一方面,平板狀氧化鋁進(jìn)行研磨時(shí),研磨壓力是均勻分布在顆粒表面,顆粒不易破碎,性能提高,從而提高了研磨效率和表面光潔度。
對(duì)于半導(dǎo)體材料如半導(dǎo)體硅片,平板狀氧化鋁的應(yīng)用,可以減少磨削時(shí)間,大幅提高研磨效率,減少磨片機(jī)的損耗,節(jié)省人工和磨削***,提高磨削合格率。品質(zhì)接近國外。
顯像管玻殼磨削工效提高3-5倍;
合格品率提高10-15%,半導(dǎo)體硅片合格品率達(dá)到99%以上;
研磨消耗量比普通氧化鋁拋光粉減少40-40%;
平板狀氧化鋁微粉是以工業(yè)氧化鋁粉為主要原料,采用特殊礦化劑、高溫控制晶粒形狀及大小,經(jīng)特殊處理和嚴(yán)顆粒呈***的平板狀結(jié)構(gòu),硬度高達(dá)莫氏九級(jí),磨削力強(qiáng),不易產(chǎn)生劃痕,有特殊設(shè)計(jì)的粒度分布,質(zhì)量和日本FUJIMI公司相當(dāng)。
平板氧化鋁研磨拋光微粉的特點(diǎn)
1)平板型氧化鋁研磨拋光微粉與其它氧化鋁研磨拋光微粉的區(qū)別是:片狀,硬度高,粒度均勻。
2)特點(diǎn)為:
A、形狀為平板狀,即片狀,使磨擦力增大,提高了磨削速度,提高了工效,因此可減少磨片機(jī)的數(shù)量、人工和磨削時(shí)間,如顯像管玻殼磨削工效能提高3-5倍;
B、由于形狀為平板狀,故對(duì)于被磨對(duì)象(如半導(dǎo)體硅片等)來說不易劃傷,合格品率可提高10%至15%,如半導(dǎo)體硅片,其合格品率一般能達(dá)到99%以上;
C、由于硬度比普通氧化鋁研磨拋光微粉高,故用量比普通氧化鋁研磨拋光微粉要少,如果磨同樣數(shù)量的產(chǎn)品,其用量比普通氧化鋁研磨拋光微粉要節(jié)約40%至50%;
D、與國外同類產(chǎn)品相比,質(zhì)量達(dá)到或超過國外同類產(chǎn)品,品質(zhì)已達(dá)到***,但產(chǎn)品價(jià)格只有國外同類產(chǎn)品的50%;
E、由于平板型氧化鋁研磨拋光微粉的優(yōu)良性能,故加工的產(chǎn)品合格品***,質(zhì)量穩(wěn)定,生產(chǎn)成本只有原來的50%-60%。
3、片狀氧化鋁是以工業(yè)氧化鋁為原料,添加復(fù)合礦化劑,經(jīng)過高溫煅燒而成。晶體形貌為具有一定厚度的片狀備用于以下方面的研磨拋光磨料,平板型氧化鋁研磨拋光微粉的用途:
1)電子行業(yè): 單晶硅片、壓電石英晶體、化合物半導(dǎo)體的研拋。
2)玻璃行業(yè): 硬質(zhì)玻璃和顯象管玻殼的加工。
3)涂附行業(yè): 特種涂料和等離子噴涂的填充劑。
4)金屬和陶瓷加工業(yè)。
片狀氧化鋁的生產(chǎn)規(guī)格:
型號(hào) |
D3(um) |
D50(um) |
D94(um) |
CA40 |
39-44.6 |
27.7-31.7 |
18-20 |
CA35 |
35.4-39.8 |
23.8-27.2 |
15-17 |
CA30 |
28.1-32.3 |
19.2-22.3 |
13.4-15.6 |
CA25 |
24.4-28.2 |
16.1-18.7 |
9.6-11.2 |
CA20 |
20.9-24.1 |
13.1-15.3 |
8.2-9.8 |
CA15 |
14.8-17.2 |
9.4-11 |
5.8-6.8 |
CA12 |
11.8-13.8 |
7.6-8.8 |
4.5-5.3 |
CA09 |
8.9-10.5 |
5.9-6.9 |
3.3-3.9 |
CA05 |
6.6-7.8 |
4.3-5.1 |
2.55-3.05 |
CA03 |
4.8-5.6 |
2.8-3.4 |
1.5-2.1 |
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